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A typical optical microstruc.. 翻译
原文(英语):
A typical optical microstructure of plasma nitrided specimen is
shown in Fig. 6(a). It consisted of an internal nucleus of bainite plus
martensite and a nitrided layer on the external surface. The nitrided
surface consisted of two layers: a compound layer at the top, being
very thin, and a diffusion layer beneath. In the diffusion layer a
dispersion of nitride precipitates in the matrix enriched in nitrogen
was observed; the layer, as delineated by the chemical etching, was
homogeneous. The thickness of the diffusion layer increased with
increasing nitriding temperature due to the higher diffusion rate of
nitrogen at higher temperature. Fig. 6(b)−(d) shows the detail crosssectional
images of plasma nitrided specimens revealed by scanning
electron microscopy. In all the specimens, a compound layer was
observed at the upper surface. As revealed by XRD, the compound
layer was mostly comprised of the ε-nitride- and γ'-nitride phases.
Nitriding at 475 °C resulted in the formation of a thin compound layer
(Fig. 6(b)). On the specimens nitrided at 500 °C and 525 °C 更多:https://www.bmcx.com/ , the
compound layer grew thicker and more homogeneous (Fig. 6(c) and
(d)). The average thickness of the compound layers was measured to
be about 2.8 μm, 4.2 μm, and 5.0 μm for the specimens nitrided at
475 °C, 500 °C, and 525 °C, respectively.
翻译结果(简体中文)1:
一个典型的离子氮化试样的光学显微
显示图。 6(一)。它由贝氏体,加上内部的核
马氏体和外部表面上的氮化层。氮化
表面包括两个层次:在顶部的复合层,
非常薄,和扩散层之下。在扩散层1
氮化分散沉淀在氮气丰富的矩阵
观察;层,化学蚀刻划定,
均匀。扩散层的厚度增加
增加氮化温度较高的扩散率
氮在较高的温度。图第6(b) - (d)给出了详细的横截面
血浆渗标本的扫描图像显示
电子显微镜。在所有的标本,是一个复合层
在表面上观察。作为揭示了X射线衍射 更多:https://www.bmcx.com/ ,复合
层主要的ε-氮化物和γ-氮化物相组成。
氮化在475°C,形成一个薄的复合层
(图6(b))。在500°C和525°C,氮化标本
复合层越来越厚和更均匀(图6(c)和
(d)段)。复合层的平均厚度测量
约为2.8微米,4.2微米和5.0微米的标本氮化
475°C,500°C,525°C,分别为。
翻译结果(简体中文)2:
典型的光学显微结构的等离子体氮化标本是
人图中所示。它包括内部的核的贝氏体加
马氏体和外部表面氮化层。氮化
表面组成的两个图层: 在顶部,复合层正在
很薄,和扩散层的下方。扩散层
分散的氮化物沉淀富氮在矩阵中
有人指出 ;图层,则所划定的化学刻蚀,是
均匀。扩散层厚度的增加
由于扩散率较高的氮化温度增加
氮温度较高。无花果。6(b)−(d) 显示详细截面
等离子体氮化标本揭示的扫描图像
电子显微镜。在所有的标本 更多:https://www.bmcx.com/ ,复合层是
在上部表面观察到。XRD,复合的显示
层大多组成的投资额 (欧元)-氮化物和 γ'-氮化阶段。
氮化 475 ° C 时导致形成一层薄薄的复合
(Fig.6(b)).在 500 ° C 和 525 ° C,氮化层的标本
复合层变厚,更均匀 (图划定和
(d)).复合层的平均厚度的测量值是以
是约 2.8 μ m、 4.2 μ m 和 5.0 μ m 的标本在氮化
475 ° C、 500 ° C 和 525 ° C,分别。
翻译结果(简体中文)3:
一个典型的光学微结构的等离子体氮化的标本被显示在图6
(一个)。它由一个内部的原子核贝氏体+
马氏体和一个外部表面氮化层。氮化
的表面由两层:一个复合层顶端时,被
非常脆弱,扩散层的下面。在扩散层一
色散矩阵中的沉淀氮化的富含氮观察
;层,通过分析化学腐蚀 更多:https://www.bmcx.com/ ,是
均匀。扩散层厚度的增加而增加渗氮温度
由于更高的扩散速率
温度较高的氮。图。6(b)−(d)显示了详细crosssectional
图片揭示了等离子体氮化标本
扫描电子显微镜。在所有的标本,复合层
观察表面上。在500年的标本°C的氮化和525°C,
复合层变得越来越浓密,越来越均匀(图6(C)和
(d))。平均复合层的厚度测量到大约2
。
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